智能操作模式，支持一鍵操作，點擊“自動測試”，然後按提示加入樣品，其他所有操作自動完成。不僅減輕了測試員的工作量，而且消除了人為因素的干擾誤差。
採用精密四相混合式步進馬達組成光路自動對中系統，微動精度達到微米級別，使儀器雷射光源始終處於最佳狀態。
採用全內置分散系統─使用大功率循環泵，對管路進行優化設計，使整體控制協調性達到極高水平，有效的防止大顆粒的二次沉澱。
專利光路設計─採用會聚光傅立葉變換專利技術，使散射光不受透鏡孔徑限制；獨創雙雷射光正交光源，並使用輔助半導體雷射光測量側向散射45度至141度，將測量範圍進一步擴展。
全自動乾溼式雷射分析儀產品規格：
- 執行標準：
- ISO 13320-1:1999
- GB/T19077.1-2308
- Q/0100JWN001-2013
- 測試範圍：濕式 0.01-2000μm/乾式 1-2000μm
- 通道數：濕式127通道/乾式100通道
- 準確性誤差：<1%
- 精確性誤差：<1%
- 雷射光源參數：
- 主雷射光源(高性能 He-Ne 雷射光 λ= 650nm；p>3mW)
- 輔助雷射光源(半導體雷射光，λ= 532nm; p>2mW)
- 分散方式：
- 超聲波震盪頻率：40KHz；功率：50W
- 高轉速攪拌器0-3000r.p.m.(轉速可調整)
- 循環泵浦30L/min；功率：70W
- 1000ml大體積樣品分散槽
- 操作模式：全自動操作
- 測試速度：<2min/次
- 光源校正：全自動對準校正
